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受託加工について

Tianma Japanは、長年培ってきたLCD製造ノウハウを活かし、高品質なガラス基板上のパターニング加工製品を提供できます。
さらに、Tianma Japanは、薄膜技術のニーズの多様化に対応するべく、材料・加工・装置メーカや研究機関と連携し、新技術や新製品の開発に共創できるパートナーを目指しております。

   

受託加工の特徴

・各種薄膜の成膜、パターンニング、基板切断まで一貫加工が可能です。
・ガラス基板の最大サイズは550x660mm、板厚0.5/0.7mmとなります。
・各種メタル材料、無機絶縁膜材料、有機絶縁膜材料を用意しています。
・少量レベルの試作~量産まで、幅広く対応致します。
・IC, FPC実装のご要望ありましたら、ご相談ください。
・CAD作業等、設計のお手伝いができます。
・信頼性評価のご要望ありましたら、ご相談ください。
・試作品の膜厚などの各種測定のご要望ありましたら、ご相談ください。
・LCD製造の技術、設備、ノウハウを用いて、LCD以外の製品生産や試作品の受託加工にも対応いたします。

 

 
 

当社保有設備にて、可能な加工内容

■基板加工

可能な加工・処理内容

製法、装置

備考(寸法・精度・原材料等)

加工・処理可能な基板

購入品

550x660mm 0.5t/0.7t

基板の洗浄

UV/薬液/高圧/超音波/純水処理

 

成膜

金属膜形成
 膜厚:別表による

スパッタリング

Al合金、Mo合金、ITO、Cr、Cu等

絶縁膜形成(無機)
 膜厚:別表による

P-CVD

SiNx、SiOx等

絶縁膜形成(有機)
 膜厚:別表による

スピンコーター
スリットコーター

アクリル系(PS形成含む)、ポリイミド系

機能膜形成
 膜厚:別表による

P-CVD、スパッタリング

a-Si、InGaZnO₄

パターニング

 フォトリソ加工
 

レジスト塗布

スピンコーター

 

露光

 

*当社にてマスクレイアウト
設計を承ります

アライナー

最小線幅4μm
重ね精度±2μm

ステッパー

最小線幅4μm
重ね精度±2μm

プロキ

最小線幅8μm
重ね精度±3μm

現像

現像液処理

 

エッチング

ドライエッチング

SiOx、SiNx、Cr

ウエットエッチング

Al合金、Mo合金、ITO、Cu、(Ag)

剥離

アミン系剥離液処理

 

高温アニール(ベーク)処理

熱風循環方式

N2導入によるO2濃度調整可

CVD装置投入口 CVD装置 ITOスパッタ装置
CVD装置投入口 CVD装置 ITOスパッタ装置
フォトリソ装置投入口 ステッパー露光機 ドライエッチング装置
フォトリソ装置投入口 ステッパー露光機 ドライエッチング装置
 


別表1:膜種、膜厚、線幅、比抵抗  ★形成可能な膜種・膜厚は以下のようになっております。

項目

膜種

膜厚
(nm)

最小線幅/間隔(μm)

*標準膜厚での値

比抵抗
(μΩ・cm)

備考

配線/
電極

AL合金

30~500

4/5

5

Mo合金と積層して使用

Mo合金

30~300

4/4.5

16

 

ITO(透明導電膜)

40~150

4/5

165~800

 

Cr

30~50

4/4

20

 

Cu

30~200

4/9

3

 

      ※膜厚・線幅・線間距離は目安ですので、ご希望ございましたらご相談ください。
      ※膜厚などの各種測定のご要望ありましたら、ご相談ください。


別表2:膜種、膜厚、線幅  ★形成可能な膜種・膜厚は以下のようになっております。

項目

膜種

膜厚
(nm)

最小線幅(μm)

*標準膜厚での値

備考

絶縁膜

SiNx(窒化膜)

50~1000

5

絶縁膜へのコンタクトホールの形成も可能です。

SiOx(酸化膜)

50~200

5

アクリル系樹脂膜

1500~25000

10

ポリイミド系樹脂膜

100~10000

10

機能膜

a-Si

10~250

5

 

InGaZnO₄

30~200

5

      ※膜厚・線幅・線間距離は目安ですので、ご希望ございましたらご相談ください。
      ※膜厚などの各種測定のご要望ありましたら、ご相談ください。


■基板後加工

可能な加工・処理内容

製法、装置

備考(寸法・精度・原材料等)

シール材の塗布

ディスペンス

シール幅:0.5~2mm幅程度

ODF

(材料滴下&配線基板と対向基板の重ね合わせ、UV硬化)

ODF装置
UV照射硬化装置
重ね精度±6μm
(370×470mm基板のみ処理可能)

シール材の熱硬化

熱風循環焼成炉

 

ガラスの薄板化(スリミング)

ケミカルエッチング(外部)

片側0.2tまで可能

ガラス基板の切断

個片切断装置

異形切断装置

・切断精度:±0.3mm
・各種サイズへの切断可能
・長方形以外の特殊な形状への切断も可能(異形切断)

個片切断済品の端面研磨・洗浄

端面研磨装置

 

個片切断済品の洗浄

中性洗剤&純水洗浄

 


■その他、貼合加工など

可能な加工・処理内容

製法、装置

備考(寸法・精度・原材料等)

各種フィルム類の貼合

フィルム貼合装置

処理可能size(中型)
 108x167 ~ 370x500mm

処理可能size(大型)
 200x300 ~ 650x650mm

センサー&タッチパネルなどの貼合

OCRによる真空貼合UV硬化処理含む

処理可能size
 87x142~325x490mm

OCAによる貼合

LCDモジュールへのタッチパネルなどの貼合

OCRによる真空貼合UV硬化処理含む

OCAによる貼合

接着剤による貼合

フィルム貼合装置 真空貼合装置
フィルム貼合装置 真空貼合装置
 

製品事例1:LCD材料評価用基板

 

液晶材料・配向材料の技術評価、品質管理用のテストピース等をご提供しています。
シート形状、短冊形状、個片 各種形状で対応いたします。

 

製品事例2:OLED材料評価用基板

Tianma Japan社内評価例
 

OLED材料評価用のテストピース等をご提供しています。
シート形状、短冊形状、個片 各種形状で対応いたします。

 

製品事例3:ACF材料評価用基板

FPC,COG圧接評価用TEG事例

 
 

ACF材料評価用のテストピース等をご提供しています。
シート形状、短冊形状、個片 各種形状で対応いたします。